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发布时间
现行
JB/T 12028-2014
涡旋压缩机铝合金精锻涡旋盘通用技术条件
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Precision forging of aluminum alloy scroll disk for scroll compressor - General specifications
发布单位或类别：
行业标准-机械
发布日期：
2014-07-09
CCS分类：
J32锻压
ICS分类：
25.020制造成型过程
现行
SJ 20843-2002
砷化镓单晶AB微缺陷密度定量检验方法
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Quantitaive determination of AB microscopic defect density in gallium arsenide single crystal
发布单位或类别：
行业标准-电子
发布日期：
2002-10-30
CCS分类：
ICS分类：
废止
GB/T 14863-2013
用栅控和非栅控二极管的电压电容关系测定硅外延层中净载流子浓度的方法
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Method for net carrier density in silicon epitaxial layers by voltage-capacitance of gated and ungated diodes
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2013-12-31
CCS分类：
H80半金属与半导体材料综合
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 12157-2022
工业循环冷却水和锅炉用水中溶解氧的测定
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Determination of dissolved oxygen in water for industrial circulating cooling system and boiler
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2022-03-09
CCS分类：
G76水处理剂基础标准与通用方法
ICS分类：
13.060水质
现行
GB/T 30868-2014
碳化硅单晶片微管密度的测定 化学腐蚀法
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Test method for measuring micropipe density of monocrystalline silicon carbide wafers―Chemically etching
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2014-07-24
CCS分类：
H83化合物半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 30866-2014
碳化硅单晶片直径测试方法
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Test method for measuring diameter of monocrystalline silicon carbide wafers
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2014-07-24
CCS分类：
H83化合物半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/GDAEM 4-2022
水质 化学需氧量、总磷、氨氮和总氮便携式监测仪技术要求及检测方法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2022-12-27
CCS分类：
Z环境保护
ICS分类：
13.060.50水的化学物质检验
现行
T/GDCAA 004-2022
水质 化学需氧量、总磷、氨氮和总氮便携式监测仪技术要求及检测方法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2022-12-27
CCS分类：
ICS分类：
13.060.50水的化学物质检验
现行
SJ/T 11504-2015
碳化硅单晶抛光片表面质量的测试方法
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Test method for measuring surface quality of polished monocrystalline silicon carbide
发布单位或类别：
行业标准-电子
发布日期：
2015-04-30
CCS分类：
H83化合物半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
GB/T 30867-2014
碳化硅单晶片厚度和总厚度变化测试方法
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Test method for measuring thickness and total thickness variation of monocrystalline silicon carbide wafers
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2014-07-24
CCS分类：
H83化合物半导体材料
ICS分类：
29.045半导体材料
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国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
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每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
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