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发布时间
现行
T/ICMTIA SM0028-2022
集成电路用电子级多晶硅
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发布单位或类别:
团体标准
发布日期:
2022-05-10
CCS分类:
ICS分类:
01.020术语学(原则和协调配合)
现行
GB/T 26068-2018
硅片和硅锭载流子复合寿命的测试 非接触微波反射光电导衰减法
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Test method for carrier recombination lifetime in silicon wafers and silicon ingots—Non-contact measurement of photoconductivity decay by microwave reflectance method
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2018-12-28
CCS分类:
H21金属物理性能试验方法
ICS分类:
77.040金属材料试验
现行
GB/T 14146-2021
硅外延层载流子浓度的测试 电容-电压法
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Test method for carrier concentration of silicon epitaxial layers—Capacitance-voltage method
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2021-05-21
CCS分类:
H21金属物理性能试验方法
ICS分类:
77.040金属材料试验
现行
GB/T 39145-2020
硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2020-10-11
CCS分类:
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类:
77.040金属材料试验
现行
GB/T 37049-2018
电子级多晶硅中基体金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
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Test method for the content of metal impurity in electronic grade polysilicon—Inductively coupled-plasma mass spectrometry method
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2018-12-28
CCS分类:
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类:
77.040.30金属材料化学分析
现行
T/ICMTIA BS0029-2022
集成电路材料产品成熟度等级划分及定义
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发布单位或类别:
团体标准
发布日期:
2022-07-04
CCS分类:
ICS分类:
01.020术语学(原则和协调配合)
现行
T/ICMTIA BS0030-2022
集成电路材料产品分类
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发布单位或类别:
团体标准
发布日期:
2022-07-04
CCS分类:
ICS分类:
01.020术语学(原则和协调配合)
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国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号,可接待到馆读者,为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
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每周一至周五8:30-17:00(节假日不开放)
地 址:
北京市海淀区知春路4号
乘车线路:
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