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展开全部分类
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相关性
标准号
发布时间
被代替
GB/T 30656-2014
碳化硅单晶抛光片
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Polished monocrystalline silicon carbide wafers
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2014-12-31
CCS分类:
H83化合物半导体材料
ICS分类:
29.045半导体材料
现行
T/IAWBS 005-2024
6~8英寸碳化硅单晶抛光片
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发布单位或类别:
团体标准
发布日期:
2024-01-12
CCS分类:
H冶金
ICS分类:
29.045半导体材料
废止
DB5306/T 84-2022
“双随机、一公开”监管工作规范
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发布单位或类别:
云南省地方标准
发布日期:
2022-09-30
CCS分类:
A00标准化、质量管理
ICS分类:
03.160法律、行政管理
现行
GB/T 30656-2023
碳化硅单晶抛光片
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Polished monocrystalline silicon carbide wafers
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2023-03-17
CCS分类:
H83化合物半导体材料
ICS分类:
29.045半导体材料
现行
GB/T 41765-2022
碳化硅单晶位错密度的测试方法
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Test method for dislocation density of monocrystalline silicon carbide
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2022-10-12
CCS分类:
H21金属物理性能试验方法
ICS分类:
77.040金属材料试验
现行
GB/T 31351-2014
碳化硅单晶抛光片微管密度无损检测方法
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Nondestructive test method for micropipe density of polished monocrystalline silicon carbide wafers
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2014-12-31
CCS分类:
H26金属无损检验方法
ICS分类:
77.040.99金属材料的其他试验方法
现行
GB/T 32278-2015
碳化硅单晶片平整度测试方法
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Test methods for flatness of monocrystalline silicon carbide wafers
发布单位或类别:
国家标准
发布日期:
2015-12-10
CCS分类:
H21金属物理性能试验方法
ICS分类:
77.040金属材料试验
现行
T/IAWBS 014-2021
碳化硅单晶抛光片位错密度的测试方法
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发布单位或类别:
团体标准
发布日期:
2021-09-15
CCS分类:
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类:
29.045半导体材料
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国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号,可接待到馆读者,为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
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每周一至周五8:30-17:00(节假日不开放)
地 址:
北京市海淀区知春路4号
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