GB/T 44849-2024-微机电系统（MEMS）技术金属膜材料成形极限测量方法-国家数字标准馆

未生效 GB/T 44849-2024

到馆提醒

收藏跟踪

购买正版

微机电系统（MEMS）技术金属膜材料成形极限测量方法 Micro-electromechanical systems (MEMS) technology—Forming limit measuring method of metallic film materials

发布日期： 2024-10-26

实施日期： 2025-05-01

分类信息

发布单位或类别：中国-国家标准

CCS分类： L59电子元器件与信息技术 - 微电路 - 微型组件

ICS分类： 31.080.99半导体分立器件 - 其他半导体分立器件

关联关系

研制信息

归口单位：全国微机电技术标准化技术委员会

起草单位：合肥美的电冰箱有限公司、中机生产力促进中心有限公司、无锡华润上华科技有限公司、苏州大学、微纳感知（合肥）技术有限公司、宁波科联电子有限公司、西北工业大学、美的集团股份有限公司、深圳市美思先端电子有限公司、华东电子工程研究所（中国电子科技集团公司第三十八研究所）、上海临港新片区跨境数据科技有限公司、北京晨晶电子有限公司、安徽北方微电子研究院集团有限公司

起草人：曹诗亮、李根梓、马卓标、胡永刚、孙立宁、许磊、王雄伟、王学文、王春举、钱峰、张森、武斌、张红旗、张启心、汤一、陈林、王文婧

相似标准/计划/法规

GB/T 42158-2023

微机电系统（MEMS）技术微沟槽和棱锥式针结构的描述和测量方法
Micro-electromechanical systems technology（MEMS） —Description and measurement methods for micro trench and pyramidal needle structures

GB/T 34894-2017

微机电系统（MEMS）技术基于光学干涉的MEMS微结构应变梯度测量方法
Micro-electromechanical system technology—Measuring method for strain gradient measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer

GB/T 34893-2017

微机电系统（MEMS）技术基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法
Micro-electromechanical system technology—Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer

GB/T 34900-2017

微机电系统（MEMS）技术基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
Micro-electromechanical system technology—Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer

BS 10/30232073 DC

BS EN 62047-14. Semiconductor devices. Micro-electromechanical systems. Part 14. Forming limit measuring method of metallic film materials
英国标准EN 62047-14 半导体器件微机电系统第14部分金属薄膜材料成形极限测量方法

《国家标准化发展纲要》提出建设国家数字标准馆，推动标准化工作向数字化、网络化、智能化转型。中国标准化研究院正在全力推进国家数字标准馆建设，力争在2026年底建成“一个中心”和“一个平台”，即全球领先的标准数据资源中心，涵盖标准全生命周期的数字化、网络化、智能化研究与服务平台。

专题数据库

标准管理系统

大数据分析系统

标准智能研制系统