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发布时间
现行
YS/T 1301-2019
氯硅烷中三氯氧磷、三氯化磷的测定 气相色谱质谱联用法
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Determination of phosphorus oxychloride,phosphorus trichloride in chlorosilanes-Gas chromatography-mass spectrometry method
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2019-08-02
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
YS/T 1300-2019
氯硅烷中甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、甲基三氯硅烷的测定 气相色谱质谱联用法
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Determination of methyldichlorosilane,trimethylchlorosilane and methyltrichlorosilane in chlorosilanes-Gas chromatography-mass spectrometry method
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2019-08-02
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
YS/T 1290-2018
多晶硅生产尾气中硅烷含量的测定 气相色谱法
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Determination of silane content in tail gas of polycrystalline silicon production-Gas chromatographic method
发布单位或类别：
行业标准-有色金属
发布日期：
2018-10-22
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 1557-2018
硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
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Test method for determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2018-09-17
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
GB/T 4059-2018
硅多晶气氛区熔基磷检验方法
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Test method for phosphorus content in polycrystalline silicon by zone-melting method under controlled atmosphere
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2018-12-28
CCS分类：
H17半金属及半导体材料分析方法
ICS分类：
77.040金属材料试验
现行
T/CNIA 0020-2019
氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2019-02-13
CCS分类：
H10/19金属化学分析方法
ICS分类：
83.080.01塑料综合
现行
T/CNIA 0021-2019
绿色设计产品评价技术规范 多晶硅
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2019-02-13
CCS分类：
K30/39低压电器
ICS分类：
29.045半导体材料
现行
T/CNIA 0012-2019
硅粉中硼、磷、铁、铝、钙、钛含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2019-02-13
CCS分类：
H10/19金属化学分析方法
ICS分类：
77.040.01金属材料试验综合
现行
T/CNIA 0116-2021
多晶硅生产尾气净化用活性炭中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
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发布单位或类别：
团体标准
发布日期：
2021-03-19
CCS分类：
ICS分类：
65.020.01农业和林业综合
现行
GB/T 38907-2020
节水型企业 多晶硅行业
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Water saving enterprises—Polysilicon industry
发布单位或类别：
国家标准
发布日期：
2020-06-02
CCS分类：
P01技术管理
ICS分类：
03.100.50生产、生产管理
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国家标准馆位于北京市海淀区知春路4号，可接待到馆读者，为读者提供标准文献检索、文献阅览、信息咨询、信息跟踪、信息推送等服务。
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开放时间：
每周一至周五8:30-17:00（节假日不开放）
地 址：
北京市海淀区知春路4号
乘车线路：
乘坐地铁10号线、昌平线，在西土城站下车D口出后西行150米即可到达。
服务咨询：
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