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现行
GB/T 24582-2023
多晶硅表面金属杂质含量测定 酸浸取-电感耦合等离子体质谱法
Test method for measuring surface metal impurity content of polycrystalline silicon—Acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry method
发布单位或类别:国家标准
发布日期: 2023-08-06
现行
T/CNIA 0020-2019
氯硅烷歧化反应用树脂催化剂中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
发布单位或类别:团体标准
发布日期: 2019-02-13
现行
T/CNIA 0064-2020
多晶硅行业用无尘擦拭布中杂质含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
发布单位或类别:团体标准
发布日期: 2020-05-27
现行
T/CNIA 0118-2021
电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
发布单位或类别:团体标准
发布日期: 2021-03-19
CCS分类: