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ISO 20411:2018
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Correction method for saturated intensity in single ion counting dynamic secondary ion mass spectrometry
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表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 单离子计数动态二次离子质谱法中饱和强度的校正方法
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2018-03-09
CCS分类：
现行
ISO 13084:2018
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary ion mass spectrometer
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表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 用于飞行时间二次离子质谱仪的质谱的校准
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2018-11-15
CCS分类：
现行
ISO/TS 22933:2022
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Method for the measurement of mass resolution in SIMS
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表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2022-04-01
CCS分类：
现行
ISO 14237:2010
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
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表面化学分析——二次离子质谱法——用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2010-07-09
CCS分类：
废止
ISO 13084:2011
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Calibration of the mass scale for a time-of-flight secondary-ion mass spectrometer
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表面化学分析——二次离子质谱法——飞行时间二次离子质谱仪质量刻度的标定
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2011-05-05
CCS分类：
现行
ISO 17862:2022
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Linearity of intensity scale in single ion counting time-of-flight mass analysers
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表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2022-09-23
CCS分类：
现行
ISO 18114:2021
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of relative sensitivity factors from ion-implanted reference materials
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表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 离子注入参考物质的相对敏感性因子的测定
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2021-05-11
CCS分类：
废止
ISO 17862:2013
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Linearity of intensity scale in single ion counting time-of-flight mass analysers
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表面化学分析——二次离子质谱法——单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2013-12-10
CCS分类：
现行
ISO 22415:2019
Surface chemical analysis — Secondary ion mass spectrometry — Method for determining yield volume in argon cluster sputter depth profiling of organic materials
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表面化学分析.二次离子质谱法.有机材料氩团簇溅射深度剖面测定屈服体积的方法
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2019-05-10
CCS分类：
现行
ISO 12406:2010
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of arsenic in silicon
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表面化学分析——二次离子质谱法——硅中砷的深度剖面分析方法
发布单位或类别：国际标准化组织
发布日期： 2010-11-08
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