ISO 14237:2010-表面化学分析——二次离子质谱法——用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度 -国家数字标准馆

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Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials 表面化学分析——二次离子质谱法——用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度

发布日期： 2010-07-09

ISO 14237:2010规定了一种二次离子质谱法，用于使用由注入硼的认证参考材料校准的均匀掺杂材料测定单晶硅中的硼原子浓度。该方法适用于浓度范围为1 × 1016原子/cm3至1 × 1020原子/cm3的均匀掺杂硼。

ISO 14237:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method for the determination of boron atomic concentration in single-crystalline silicon using uniformly doped materials calibrated by a certified reference material implanted with boron. This method is applicable to uniformly doped boron in the concentration range from 1 x 1016 atoms/cm3 to 1 x 1020 atoms/cm3.

分类信息

发布单位或类别：国际组织-国际标准化组织

ICS分类： 71.040.40分析化学 - 化学分析

关联关系

研制信息

归口单位： ISO/TC 201/SC 6

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