首页 馆藏资源 舆情信息 标准服务 科研活动 关于我们
现行 GB/T 14139-2019
到馆阅读
收藏跟踪
购买正版
硅外延片 Silicon epitaxial wafers
发布日期: 2019-06-04
实施日期: 2020-05-01
本标准规定了硅外延片的牌号和分类、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于在直径不大于 150 mm 的 N 型和 P 型硅抛光片衬底上生长的硅外延片
分类信息
关联关系
研制信息
相似标准/计划/法规
现行
GB/T 43885-2024
碳化硅外延片
Silicon carbide epitaxial wafers
2024-04-25
现行
GB/T 35310-2017
200mm硅外延片
200mm silicon epitaxial wafer
2017-12-29
现行
GB/T 14015-1992
硅-蓝宝石外延片
Silicon on sapphire epitaxial wafers
1992-12-28
现行
SJ 3242-1989
砷化镓外延片
Gallium arsenide epitaxy wafers
1989-03-20
现行
SJ/T 11470-2014
发光二极管外延片
Epitaxial wafers of light-emitting diodes
2014-10-14
现行
GB/T 42902-2023
碳化硅外延片表面缺陷的测试 激光散射法
Test method for surface defects on silicon carbide epitaxial wafers—Laser scattering method
2023-08-06
现行
DL/T 2310-2021
电力系统高压功率器件用碳化硅外延片使用条件
Acceptance specification for silicon carbide epitaxial wafer of high voltage power devices in the grid system
2021-04-26
现行
SJ/T 11471-2014
发光二极管外延片测试方法
Measurement methods for epitaxial wafers of light-emitting diodes
2014-10-14
现行
GB/T 30652-2023
硅外延用三氯氢硅
Trichlorosilane for silicon epitaxial
2023-08-06
现行
GB/T 35308-2017
太阳能电池用锗基Ⅲ-Ⅴ族化合物外延片
Epitaxial wafers of germanium based Ⅲ-Ⅴcompounds for solar cell
2017-12-29
现行
GB/T 37053-2018
氮化镓外延片及衬底片通用规范
General specification for epitaxial wafers and substrates based on gallium nitride
2018-12-28
现行
GB/T 12965-2018
硅单晶切割片和研磨片
Monocrystalline silicon as cut wafers and lapped wafers
2018-09-17
现行
SME MS900134
Silicon Wafer Reprocessing
硅片再加工
1990-06-01
现行
YS/T 28-2015
硅片包装
Package of silicon wafers
2015-04-30
现行
YS/T 985-2014
硅抛光回收片
Polished reclaimed silicon wafers
2014-10-14
现行
GB/T 26069-2022
硅单晶退火片
Annealed monocrystalline silicon wafers
2022-03-09
现行
GB/T 12964-2018
硅单晶抛光片
Monocrystalline silicon polished wafers
2018-09-17
现行
YS/T 1167-2016
硅单晶腐蚀片
Monocrystalline silicon etched wafers
2016-07-11
现行
GB/T 29506-2013
300mm 硅单晶抛光片
300mm polished monocrystalline silicon wafers
2013-05-09
现行
GB/T 34479-2017
硅片字母数字标志规范
Specification for alphanumeric marking of silicon wafers
2017-10-14